Intel Foundry หน่วยงานด้านการผลิตชิปของอินเทล ประกาศความก้าวหน้าสำคัญในการติดตั้งเครื่องผลิตชิป EUV แบบ High-NA (Numerical Aperture) ที่ใช้ในทางพาณิชย์เครื่องแรกที่หน่วยงานวิจัยพัฒนาของอินเทล ในเมืองฮิลส์โบโร รัฐออริกอน
เครื่องจักร High-NA EUV นี้ผลิตโดย ASML รุ่น TWINSCAN EXE:5000 ซึ่งอินเทลเป็นลูกค้ารายแรกที่รับมอบเครื่องเมื่อปลายปีที่แล้ว
อินเทลบอกว่าเครื่องจักร High-NA EUV จะช่วยพิมพ์วงจรขนาดเล็กถึง 1.7 เท่า ของเครื่องจักร EUV ที่มีปัจจุบัน ทำให้อัดวงจรที่มิติ 2D ได้หนาแน่นขึ้นถึง 2.9 เท่า โดยอินเทลจะนำมาช่วยในการผลิตชิป Intel 18A (เทียบเท่า 2 นาโนเมตร ของ TSMC) ตามแผนงานภายในปี 2025 และนำมาใช้ในการผลิตชิป Intel 14A (1.4 นาโนเมตร) ต่อไป
ที่มา: อินเทล